دستگاه لیتوگرافی ماسک الاینر

Mask Aligner

این دستگاه برای ایجاد نقش های مورد نیاز برای تولید قطعات بر روی سطح ویفر سیلیکون استفاده می شود. عملکرد این دستگاه تا حدودی مشابه دستگاه عکاسی می باشد.

IC ها و قطعات MEMS از تکرار و توالی پروسه با مراحل متعدد لیتوگرافی ساخته می شوند. هر مرحله لیتوگرافی دارای یک الگو است که اشاره به یک لایه دارد. به منظور ساخت قطعات مفید لایه ها در مراحل مختلف لیتوگرافی مطابق با یک ساختار واحد باید نسبت به همدیگر تنظیم شوند. لایه اول که روی ویفر منتقل می شود معمولا شامل یک سری علامت های تنظیم (alignment marks) است که ویژگی های با دقت بسیار بالا هستند که به عنوان مرجع برای لایه اول به هنگام قرار دادن لایه های بعدی مورد استفاده قرار میگیرند. اغلب علامت های تنظیم که در سایر لایه ها به عنوان علامت تنظیم اولیه شامل شده ممکن است در مراحل بعدی پروسه آسیب ببیند. این نکته مهم است که برای هر علامت تنظیم روی ویفر یک label گذاشته شود تا اینکه به هنگام تنظیم کردن مشخص شود که با کدام یک از علامت های تنظیم باید aligning انجام شود. ایجاد موقعیت علامت های تنظیم موجب می شود که اپراتور به آسانی بتواند در زمان کوتاه عمل تنظیم را انجام دهد و همچنین کمک می کند که احتمال خطا کاهش یابد. هر لایه باید یک ویژگی تنظیم داشته باشد به دلیل اینکه ممکن است با بقیه لایه ها ثبت شود.